近日，國內(nèi)光刻機產(chǎn)業(yè)傳來了重磅消息，我們企業(yè)生產(chǎn)的光刻機進(jìn)入到客戶的生產(chǎn)工廠了，這是半導(dǎo)體領(lǐng)域具有代表性意義的一件大事。

據(jù)半導(dǎo)體芯情了解到，近日，國產(chǎn)光刻機企業(yè)傳來了一則新聞，上海[敏感詞]臺光刻機已成功運抵。

據(jù)悉，中企光刻設(shè)備成功進(jìn)入中企昆山同興達(dá)是一家剛剛成立一年多的企業(yè)，隸屬深圳同興達(dá)集團(tuán)。深圳同興達(dá)科技有限公司主要從事液晶顯示模塊、液晶顯示模塊、照相機模塊的研發(fā)、設(shè)計、生產(chǎn)、銷售，在驅(qū)動 IC應(yīng)用上已有數(shù)年的經(jīng)驗，是國內(nèi)液晶顯示模塊的行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者。

昆山和興達(dá)在公司的新業(yè)務(wù)領(lǐng)域拓展，主要從事半導(dǎo)體/晶片的高端封裝測試。該工廠是一座先進(jìn)的半導(dǎo)體封裝工程，預(yù)計三月份完成設(shè)備的試生產(chǎn)和試生產(chǎn)，五月正式投入生產(chǎn)。

為此，昆山公司向興達(dá)公司采購了兩部上海微電子光刻機，售價1800萬元。這是一臺金凸塊封測光刻機，比起銅和錫凸塊，金凸塊的凸塊更有優(yōu)勢。

該項目于明年八月投產(chǎn)后，可實現(xiàn)月產(chǎn)量20000片的全流程金凸塊，產(chǎn)量位居國內(nèi)前列。

最重要的是，這臺機器是一臺封測版的光刻機。光刻機按照不同的應(yīng)用領(lǐng)域，可以分為前道光刻光刻機和后道光刻機。

封測光刻機與普通的光刻機不同，后道光刻的精度要比前道光刻要低得多，所以封測光刻機的制作要簡單得多，上海微電子在封測光刻技術(shù)上是世界上[敏感詞]的。

一、關(guān)于上海微電子：上海微電子封裝光刻機占據(jù)了80%的國內(nèi)市場，占據(jù)了全球40%的市場。

上海微電子在十一月也發(fā)布了[敏感詞]臺高精度的2.5 D/3D封裝的光刻機。在芯片設(shè)計、制造、測試三個方面，封測技術(shù)是目前國內(nèi)規(guī)模[敏感詞]的一個。所以，國內(nèi)的封測技術(shù)，已經(jīng)走在了世界的前列。

（圖源上海微電子）

近幾年，關(guān)于光刻領(lǐng)域的好消息就一直在持續(xù)著。華為公布了光刻機技術(shù)的相關(guān)專利，北京國望公司光刻曝光系統(tǒng)的研究與量產(chǎn)已經(jīng)取得了一定的進(jìn)展，并已開始大規(guī)模生產(chǎn)。

據(jù)悉，上海微電子是國內(nèi)[敏感詞]的光刻機設(shè)備供應(yīng)商，也是國內(nèi)光刻機的總負(fù)責(zé)人。

光刻機分為前道光刻機和后道光刻機，上海微電子主要集中在后道光刻機領(lǐng)域。

據(jù)了解，前道光刻機主要參與芯片制造流程，運用光刻機的高精度分辨率將芯片圖案曝光在晶圓表面，原理和照相機類似。但曝光流程和工藝非常復(fù)雜，涉及到全球[敏感詞]科技技術(shù)。后道光刻機主要應(yīng)用于封裝，測試流程，用于提高芯片后道制造良率，推進(jìn)芯片落地。

前道和后道光刻機都很重要，上海微電子在2022年2月份交付了國內(nèi)首臺2.5D/3D封裝光刻機給客戶，具有高分辨率，超大曝光視場等特點。這一次，中企再傳好消息。

據(jù)半導(dǎo)體芯情了解到，上海微電子成立于2002年，主要致力于大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)的投影光刻機研發(fā)，生產(chǎn)銷售與服務(wù)，IC制造與先進(jìn)封裝，MEMS ，TSV/3D，TFT -OLED等制造領(lǐng)域。

目前，上海微電子官方公布的信息是它們掌握了90nm前道光刻機的量產(chǎn)能力。不過上海微電子更多的市場份額集中在后道封裝領(lǐng)域。

公司致力于以[敏感詞]服務(wù)，造高端產(chǎn)品，創(chuàng)卓越價值，全天候，全方位，全身心地為顧客提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和技術(shù)支持與服務(wù)。

二、光刻機用在哪？全球有哪些公司？

光刻機很重要，通常情況，光刻機主要用途來自以下場景：

（1）光刻機用于大學(xué)研發(fā)、實驗室設(shè)備。

（2）工廠用于做空空導(dǎo)彈[敏感詞]、發(fā)光二極管、傳感器、手機芯片、霍爾元件

A、發(fā)光二極管：用于在十字路口紅綠燈、公交車、汽車燈用在每到一站的顯示。

B、傳感器：用于高鐵到站傳輸信號準(zhǔn)確定位。

C、手機芯片：用在手機卡上，還有手機顯示屏面。

D、霍爾元件：用于冰箱開燈亮、關(guān)燈熄滅。

E、衛(wèi)星：衛(wèi)星上面用于衛(wèi)星角度的調(diào)整。

光刻機的主要性能指標(biāo)有支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。

在全球范圍，光刻機品牌主要有ASML，尼康，佳能，歐泰克，上海微電子裝備，SUSS，ABM, Inc.

到目前為止，只有三個國家的四家公司可以生產(chǎn)出用于芯片的前道光刻機。荷蘭 ASML在中高端光刻機上幾乎是壟斷的，而日本尼康，則是可以制造出中端 DUV光刻機，但其產(chǎn)能并不大。

日本佳能公司主要生產(chǎn)的是中低端的光刻機，而上海的微電子公司，目前也只有90 nm的生產(chǎn)水平，還沒有出口。

ASML公司可以獨做 EUV光刻機， DUV的市場占有率也很高，但他們的產(chǎn)品，并不是他們自己的。因為美國一直在限制我們的晶片開發(fā)，所以才會對 EUV進(jìn)行限制，現(xiàn)在更是對 DUV進(jìn)行了限制。

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